CAS号查询化学名 >  CAS No.7440-21-3

7440-21-3  硅; 工业硅; 结晶硅; 多晶硅; 硅粉; 金属硅

CAS Number:7440-21-3 基本信息
中文名:62596 硅; 工业硅; 结晶硅; 多晶硅; 硅粉; 金属硅
英文名:42772 silicon
别名: 4FY; Aldrich 267414-25G; Biosilicon; CZ-N Polished wafer; FEB 450D; GKO 3516A; HGH600; Hexsil; JT 02; KDB 0.1; KDB 0.5; KDB 10; KDB 20; KR 1; Metasilicon 325A; PHC20; Polysilicon; SI 1059; SILSO; Sharp 80W; Si(100) wafer; Sicomill 4C-P; Sicomill Grade 2;
分子结构:
  • 1
分子式: Si
分子量: 28.09
CAS登录号:
7440-21-3
EINECS登录号: 231-130-8
InChI: 1S/Si
物理化学性质
熔点: 1410ºC
沸点: 2355ºC
水溶性: 不溶
密度: 2.33
性质描述: 具有灰色金属光泽的晶体。 溶于氢氟酸和硝酸的混酸中,不溶于水、硝酸和盐酸。
三氯氢硅对人体有毒,其蒸气有窒息性臭味,强烈刺激呼吸道黏膜;其水解产物氯化氢、二氧化硅对肺有刺激,长期吸人可导致贫血。三氯氢硅最高容许浓度为1mg/m3。
生产设备要密闭,车间通风应良好。生产人员工作时要佩戴防毒口罩,密闭眼镜,穿工作服等劳动保护用品,以防止呼吸器官、眼睛和皮肤接触。中毒者应立即转移到新鲜空气中进行人工呼吸、输氧,注射葡萄糖及强心剂,并迅速送医院治疗。
安全信息
安全说明: S16:远离火源。
S33:采取防护措施防止静电发生。
危险品标志: F:易燃物质
危险类别码: R11:非常易燃。
危险品运输编号: UN 2922 8/PG 2
其他信息
产品应用: 1.用于制造合金、有机硅化合物和四氯化硅等, 是一种极重要的半导体材料。
2.用作制造单晶硅的原料,还用于电子工业
3.是制造半导体硅器件的原料,用于制大功率整流器、大功率晶体管、二极管、开关器件等
4.用于制造半导体分立器件、功率器件、集成电路和外延衬底等。
5.主要用于制多晶硅、单晶硅、硅铝合金及硅钢合金等
6.用于制晶体管、整流器和太阳能电池,还用于制高硅铸铁、硅钢、各种有机硅化合物等
7.用作制备单晶硅的原料。
8.主要用作制多晶硅、单晶硅、硅铝合金及硅钢合金的化合物

生产方法及其他:

生产方法1
三氯氢硅法将干燥的硅粉加入合成炉中,与通人的干燥氯化氢气体在280~330℃有氯化亚铜催化剂存在下进行氯化反应,反应气体经旋风分离除去杂质,再用氯化钙冷冻盐水将气态三氯氢硅冷凝成液体,经粗馏塔蒸馏和冷凝,除去高沸物和低沸物,再经精馏塔蒸馏和冷凝,得到精制三氯氢硅液体。纯度达到7个“9”以上、杂质含量小于1×10-7,硼要求在0.5×10-9以下。提纯后的三氯氢硅送人不锈钢制的还原炉内,用超纯氢气作还原剂,在1050~1100℃还原成硅,并以硅芯棒为载体,沉积而得多晶硅成品。其
H2+C12→2HCl
S+3HCl→SiHC13+H2
SiHCl3+H2→Si+3HCl

生产方法2
工业生产有坩埚直拉法、悬浮区熔法、中子嬗变掺杂法。
坩埚直拉法拉晶前先将设备各部件、合金石英坩埚、硅多晶和籽晶进行清洁处理。
将硅多晶破碎除去石墨,经丙酮去油后,进行化学清洗,用无离子水洗至中性,再经超声波清洗,红外干燥,配料及掺杂,加入单晶炉的合金石英坩埚中,再经抽真空、熔化,在流通的氩气氛下,人工引晶放肩和收尾。晶体的等径生长过程中,需根据情况适当调节功率,使其获得直径均匀的产品,经检测、称量,制得硅单晶成品。
悬浮区熔法先将设备和原料清洁处理,把硅多晶切断,磨后用丙酮去油,进行化学清洗,用无离子水洗至中性,再经超声波清洗,红外干燥,配料和掺杂,装炉,抽真空或充氩气。在氩气下高频加热进行区熔提纯单晶。预热、引晶、放肩、等径、收尾等过程,由人工控制。再经检测、称量,制得硅单晶成品。

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